NiFe2O4纳米线阵列的制备与磁性 |
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作者姓名: | 于冬亮 都有为 |
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作者单位: | (1)南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京 210093; (2)南京大学物理系,固体微结构国家重点实验室,南京 210093;江苏教育学院物理系,南京 210013 |
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基金项目: | 国家重点基础研究发展规划项目(批准号:G1999064508)资助的课题. |
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摘 要: | 在氧化铝模板的纳米孔洞中, 用电化学的方法沉积铁镍合金纳米线,经过550℃30h氧化处理 , 成功制备出 NiFe2O4纳米线阵列. 分别用扫描电子显微镜 (SEM) 、透射电 子显微镜 (TEM) 、x射线衍射仪 (XRD) 和振动样品磁场计 (VSM) 对样品的形貌、晶体结构 和磁学性质进行了表征测试. SEM和TEM观察结果显示氧化铝模板的孔洞分布均匀,孔心距约 为110nm; 纳米线的直径约为70nm. XRD显示纳米线阵列的物相结构为NiFe2O4; VSM测试结果表明,NiFe2O4纳米线阵列膜的易磁化方向垂直于膜面. 当垂直 磁化时磁滞回线的矩形比约为05,矫顽力为41×103A/m,比氧化处理前的铁镍合金 纳米线阵列都有显著提高.
关键词:
纳米线
Ni Fe2O4
矫顽力
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关 键 词: | 纳米线 Ni Fe2O4 矫顽力 |
收稿时间: | 2004-05-17 |
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