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单室无隔膜电解槽中恒电流电解合成丁二酸的研究
引用本文:万新军,陈声培,黄桃,孙世刚.单室无隔膜电解槽中恒电流电解合成丁二酸的研究[J].厦门大学学报(自然科学版),2005,44(1):63-66.
作者姓名:万新军  陈声培  黄桃  孙世刚
作者单位:厦门大学化学系,固体表面物理化学国家重点实验室,物理化学研究所,福建,厦门,361005
基金项目:国家自然科学基金(90206039),厦门市科技攻关项目基金(3502Z2001)资助
摘    要:旨在寻找和研制电还原顺丁烯二酸制备丁二酸中高活性、高选择性的电极材料,采用自行研制的不锈钢(Stainlesssteel,SS)载表面合金电催化材料(Surface alloy/SS)作为工作电极,利用CV研究了其在常温常压、不同电流密度和支持电解质等条件下顺丁烯二酸电合成丁二酸中的性能,通过离子色谱电导检测等技术对电合成产物进行检测分析.结果表明:Surface alloy/SS电极对顺丁烯二酸的加氢还原表现出很高的电催化活性;对产物丁二酸的选择性高;优化的电解条件为:电流密度27.68 mA·cm-2,0.1 mol·L-1硫酸作为支持电解质.

关 键 词:丁二酸  隔膜电解槽  恒电流  顺丁烯二酸  加氢还原  高活性  高选择性  电解合成  工作电极  电催化
文章编号:0438-0479(2005)01-0063-04
修稿时间:2004年7月16日

Study of Galvanostatic Synthesis of Butanedioic Acid in a Non-membrane Single Chamber Cell
WAN Xin-jun,CHEN Sheng-pei,HUANG Tao,SUN Shi-gang.Study of Galvanostatic Synthesis of Butanedioic Acid in a Non-membrane Single Chamber Cell[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2005,44(1):63-66.
Authors:WAN Xin-jun  CHEN Sheng-pei  HUANG Tao  SUN Shi-gang
Institution:WAN Xin-jun,CHEN Sheng-pei~*,HUANG Tao,SUN Shi-gang
Abstract:
Keywords:butanedioic acid  cis-butenedioic acid  surface alloy/SS  galvanostatic synthesis  ion chromagraphy
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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