表面残留有机沾污物的TOF—SIMS及XPS研究 |
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作者姓名: | 邓朝辉 林晶 |
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摘 要: | 飞行时间次级离子质谱(TOF-SIMS)结合X射线光电子能谱(XPS)分析了用化学方法清洗后,银片上残留的未知的有机物,结果显示,有机沾污物主要是一些合18~30碳原子,碳链饱和度很高的酮类和酯类化合物;个别有机物可能是硬脂酰胺。这种结构特点使有机物中的C=O基团易于采取氧原子指向基本表面的取向。通过带部分负电荷的氧原子与金属基体镜像力的作用而增强粘附,TOF-SIMS-二维离子像显示有机沾污物在
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关 键 词: | TOF-SIMS XPS 有机沾污物 银片 |
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