| 离子束刻蚀处理CLBO晶体抛光表面的研究 |
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| 引用本文： | 袁欣,沈德忠,王晓青,沈光球.离子束刻蚀处理CLBO晶体抛光表面的研究[J].人工晶体学报,2005,34(1):102-106. |
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| 作者姓名： | 袁欣 沈德忠 王晓青 沈光球 |
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| 作者单位： | 清华大学化学系,北京,100084;清华大学化学系,北京,100084;人工晶体研究院,北京,100018 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点资助项目(No. 50132010) |
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| 摘 要： | 本文研究了在不同作用时间、不同工件转速、不同入射角度等条件下离子束对CLBO晶体抛光表面的处理效果.用原子力显微镜来观察和比较了CLBO晶体抛光表面处理前后的形貌和粗糙度.试验结果显示,离子束刻蚀的时间并非越长越好;较大的工件转速使晶体表面粗糙度变大;当离子束入射角度在30～60°之间时,处理后晶体表面粗糙度均变小,90°入射时,粗糙度明显增大.试验证明,离子束处理对晶体抛光表面粗糙度Rz值影响较之Ra值更大.
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| 关 键 词： | CLBO晶体 离子束刻蚀 表面粗糙度 原子力显微镜 |
| 文章编号： | 1000-985X(2005)01-0102-05 |
Study on the Effects of Ion Beam Etching on Polished Surface of CLBO Crystal |
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| YUAN Xin,SHEN De-zhong,WANG Xiao-qing,SHEN Guang-qiu.Study on the Effects of Ion Beam Etching on Polished Surface of CLBO Crystal[J].Journal of Synthetic Crystals,2005,34(1):102-106. |
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| Authors: | YUAN Xin SHEN De-zhong WANG Xiao-qing SHEN Guang-qiu |
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| Institution: | YUAN Xin~1,SHEN De-zhong~ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CLBO crystal ion beam etching(IBE) surface roughness AFM |
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