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生长温度对L-MBE法制备的ZnO薄膜性能的影响
引用本文:徐庆安,张景文,杨晓东,巨楷如,贺永宁,侯洵. 生长温度对L-MBE法制备的ZnO薄膜性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(2): 248-252
作者姓名:徐庆安  张景文  杨晓东  巨楷如  贺永宁  侯洵
作者单位:中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室,西安,710068;中国科学院研究生院,北京,100039;西安交通大学信息光子技术省重点实验室,西安,710049;西安交通大学信息光子技术省重点实验室,西安,710049;中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室,西安,710068;西安交通大学信息光子技术省重点实验室,西安,710049;河南大学物理与信息光电子学院,开封,475000
基金项目:教育部985工程2期、211工程2期,河南省杰出人才基金(0421001500),教育部博士点基金(20030698008)资助项目
摘    要:在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250℃、300℃、350℃、400℃和450℃生长了高度C轴取向的ZnO薄膜.并进行了X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)谱的分析.测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜的结晶及发光性能得到提高;但是当温度进一步升高,却有所变差.说明利用L-MBE系统制备ZnO薄膜存在一合适的温度范围,并对此机理进行了深入分析.

关 键 词:ZnO薄膜  生长温度  激光分子束外延  X射线衍射  光致发光谱
文章编号:1000-985X(2006)02-0248-05
收稿时间:2005-09-12
修稿时间:2005-09-12

Effect of Growth Temperature on the Properties of ZnO Thin Films Prepared by Laser Molecular Beam Epitaxy
XU Qing-an,ZHANG Jing-wen,YANG Xiao-dong,JU Kai-ru,HE Yong-ning,HOU Xun. Effect of Growth Temperature on the Properties of ZnO Thin Films Prepared by Laser Molecular Beam Epitaxy[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(2): 248-252
Authors:XU Qing-an  ZHANG Jing-wen  YANG Xiao-dong  JU Kai-ru  HE Yong-ning  HOU Xun
Abstract:
Keywords:ZnO film  growth temperature  L-MBE  XRD  PL spectra
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