| 均匀设计法研究PZT铁电薄膜制备工艺的优化 |
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| 引用本文： | 樊攀峰,张之圣,胡明,刘志刚.均匀设计法研究PZT铁电薄膜制备工艺的优化[J].压电与声光,2006,28(2):246-248. |
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| 作者姓名： | 樊攀峰 张之圣 胡明 刘志刚 |
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| 作者单位： | 天津大学,电子信息工程学院,电子科学与技术系,天津,300072 |
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| 摘 要： | 应用射频磁控溅射工艺在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备具有钙钛矿结构的PZT铁电薄膜。对影响PZT薄膜性能、形貌的工作气压、基片温度、氧/氩 氧之比、溅射功率、退火温度5个主要因素进行分析,在其允许范围和精度内设置5个水平,并根据均匀设计理论对该5因素及5水平进行均匀设计。不同温度下退火之后测定了PZT薄膜的厚度、SEM表面形貌、电容、介电损耗、电滞回线(包括矫顽场强、饱和极化强度、剩余极化强度)等。最后对响应结果进行多元二次线性回归,得出了回归方程。探讨达到最优化薄膜特性所需要的工艺条件。
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| 关 键 词： | 均匀设计 PZT薄膜 制备工艺 回归分析 优化 |
| 文章编号： | 1004-2474(2006)02-0246-03 |
| 收稿时间： | 2005-07-15 |
| 修稿时间： | 2005年7月15日 |
Study on Optimization of Process for Preparing PZT Ferroelectric Thin Films by Uniform Design |
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| FAN Pan-feng,ZHANG Zhi-sheng,HU Ming,LIU Zhi-gang.Study on Optimization of Process for Preparing PZT Ferroelectric Thin Films by Uniform Design[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2006,28(2):246-248. |
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| Authors: | FAN Pan-feng ZHANG Zhi-sheng HU Ming LIU Zhi-gang |
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| Institution: | Dept. of Electronic Science and Technology, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | uniform design PZT thin films preparation techniques regression analyzes optimization |
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