| 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究 |
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| 引用本文： | 詹倩,贺连龙,李斗星. 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究[J]. 电子显微学报, 2002, 21(5): 645-646 |
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| 作者姓名： | 詹倩 贺连龙 李斗星 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家联合实验室,辽宁,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (No .5 0 0 710 63 ) |
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| 摘 要： | 采用薄膜技术制备的磁头具有较高的灵敏度 ,同时还可有效地缩小磁头尺寸 ,提高磁记录密度。良好的磁头材料要有较高的饱和磁化强度和较低的矫顽力。Ｆｅ Ｎ薄膜具有较好的磁学性能及比纯Ｆｅ高的耐腐蚀性和耐磨损性 ,因而近年来得到了广泛的研究。但研究者们大都致力于Ｆｅ Ｎ薄膜的制备及性能的研究[1,2 ] ,对其微观结构的研究则较少。本文利用透射电镜研究了Ｆｅ Ｎ薄膜的微观结构 ,为进一步优化性能提供依据。采用反应射频磁控溅射沉积技术合成Ｆｅ Ｎ薄膜。Ｆｅ靶纯度为 99 99%。 (10 0 )单晶Ｓｉ片作为衬底 ,表面有一氧化层存在。沉积…
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Fe－N薄膜 微结构 磁学性能 晶粒尺寸 厚度 透射电镜 磁头 |
Studies of microstructure in Fe-N thin films prepared by magnetron sputtering |
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