| 低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光 |
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| 引用本文： | 朱杰,张志萌,马爽.低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光[J].人工晶体学报,2013,42(6):1026-1030. |
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| 作者姓名： | 朱杰 张志萌 马爽 |
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| 作者单位： | 同济大学物理科学与工程学院,上海,200092 |
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| 摘 要： | 通过选择合适的研磨剂、抛光垫以及抛光材料,采用机械抛光与CMP抛光相结合的方法对应用于高激光损伤阈值的薄膜基体材料YCOB晶体进行表面加工.通过优化研磨抛光工艺后得到超光滑晶体表面,样品表面在125μm×94μm的范围内粗糙度RMS值达到0.6 nm,同时具有非常低的亚表面损伤层,经过超声清洗和有机溶剂刻蚀后,在高倍显微镜下无明显划痕.
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| 关 键 词： | 亚表面 YCOB 抛光 CMP |
Ultra-precision Polishing of YCOB Crystal with Low Subsurface Damage |
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| ZHU Jie,ZHANG Zhi-meng,MA Shuang.Ultra-precision Polishing of YCOB Crystal with Low Subsurface Damage[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(6):1026-1030. |
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| Authors: | ZHU Jie ZHANG Zhi-meng MA Shuang |
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