| ITO薄膜可见光区增透性能研究 |
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| 引用本文： | 李仁莹,王明,董国波,高方圆,唐芳,王玫,刁训刚.ITO薄膜可见光区增透性能研究[J].人工晶体学报,2013,42(11):2252-2257. |
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| 作者姓名： | 李仁莹 王明 董国波 高方圆 唐芳 王玫 刁训刚 |
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| 作者单位： | 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,北京,100191 |
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| 基金项目： | 国家国际科技合作专项项目(2012DFG61930);北航第七届全国大学生创新创业训练计划项目(201310006077) |
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| 摘 要： | 采用MPS单极性脉冲磁控溅射法,在PMMA衬底上制备SiO2增透薄膜,通过改变溅射时间达到最优的增透效果.在此基础上,制备了不同溅射时间的ITO薄膜,系统研究了增透前后的可见光透过率、方块电阻和红外发射率的变化.实验结果表明,增透后薄膜可见光平均透光率提高大约6;,对于溅射时间小于60 min的ITO薄膜增透之后的平均透光率达到80;以上,同时薄膜的方块电阻以及红外发射率变化较小.
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| 关 键 词： | SiO2薄膜 增透 ITO薄膜 |
Study on the Antireflection Properties of ITO Thin Film in Visible Region |
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| LI Ren-ying,WANG Ming,DONG Guo-bo,GAO Fang-yuan,TANG Fang,WANG Mei,DIAO Xun-gang.Study on the Antireflection Properties of ITO Thin Film in Visible Region[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(11):2252-2257. |
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| Authors: | LI Ren-ying WANG Ming DONG Guo-bo GAO Fang-yuan TANG Fang WANG Mei DIAO Xun-gang |
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