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退火气氛和镧掺杂浓度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响
引用本文:段文芳,赵小如,段利兵,白晓军,史小龙,朱宇瑾,孙慧楠.退火气氛和镧掺杂浓度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响[J].人工晶体学报,2013,42(8):1515-1520.
作者姓名:段文芳  赵小如  段利兵  白晓军  史小龙  朱宇瑾  孙慧楠
作者单位:西北工业大学理学院应用物理系,教育部空间应用物理与化学重点实验室,西安710129
基金项目:国家自然科学基金(51172186);教育部高等学校博士学科点专项科研基金(20106102120051)
摘    要:采用溶胶-凝胶浸渍提拉法在玻璃衬底上制备Zn1-xLaxO(x=0~0.04)(LZO)薄膜,分别在空气、氮气和氩气条件下进行退火,探讨了不同退火气氛和不同镧掺杂浓度对其结构和光学性能的影响.XRD和SEM结果表明:氩气退火条件下ZnO的晶粒尺寸比空气退火条件下和氮气退火条件下的晶粒尺寸略小,且ZnO晶粒的尺寸随着镧掺杂浓度的增加而减小.薄膜光致发光(PL)测量表明:紫光发光带中心在氩气下退火相对于空气下退火存在略微的蓝移,而在氮气下退火则相反;ZnO紫光发光带的位置随着镧掺杂浓度的增加先红移而后蓝移.禁带宽度在镧掺杂量为2;时达到最小值,说明镧可以有效地调节ZnO的禁带宽度.

关 键 词:溶胶-凝胶法  ZnO薄膜  镧掺杂  退火  禁带宽度  

Influence of Annealing Atmospheres and La Doping Contents on Crystal Structures and Optical Properties of ZnO Films
DUAN Wen-fang,ZHAO Xiao-ru,DUAN Li-bing,BAI Xiao-jun,SHI Xiao-long,ZHU Yu-jin,SUN Hui-nan.Influence of Annealing Atmospheres and La Doping Contents on Crystal Structures and Optical Properties of ZnO Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(8):1515-1520.
Authors:DUAN Wen-fang  ZHAO Xiao-ru  DUAN Li-bing  BAI Xiao-jun  SHI Xiao-long  ZHU Yu-jin  SUN Hui-nan
Abstract:
Keywords:
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