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高质量单晶In2Ge2O7纳米带的合成和生长机制探究
引用本文:马新志,张佳音,刘欣,温静,高琼,李凯,牟洪臣. 高质量单晶In2Ge2O7纳米带的合成和生长机制探究[J]. 人工晶体学报, 2013, 42(12): 2568-2571
作者姓名:马新志  张佳音  刘欣  温静  高琼  李凯  牟洪臣
作者单位:哈尔滨师范大学物理与电子工程学院,光电带隙材料省部共建教育部重点实验室,哈尔滨150025
基金项目:国家自然科学基金(51172058,11074060);黑龙江省自然科学基金重点项目(ZD201112);高等学校博士点基金联合资助项目(20112329110001);黑龙江省研究生创新科研项目(YJSCX2012-186HLJ,YJSCX2012-187HLJ)
摘    要:采用CVD法成功合成了高质量单晶In2 Ge2 O7纳米带,采用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)图像以及X射线衍射(XRD),能谱元素分布图像等对产物进行了表征.结果表明,生长的纳米带长几十微米、厚度50 nm,几乎没有缺陷且In,Ge,O元素分布均匀.此外,基于热力学原理对单晶纳米带的生长机制进行了讨论.

关 键 词:In2Ge2O7  纳米带  合成  生长机制,

Synthesis and Growth Mechanism of High Quality Single Crystal In2Ge2O7 Nanobelts
MA Xin-zhi,ZHANG Jia-yin,LIU Xin,WEN Jing,GAO Qiong,LI Kai,MU Hong-chen. Synthesis and Growth Mechanism of High Quality Single Crystal In2Ge2O7 Nanobelts[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2013, 42(12): 2568-2571
Authors:MA Xin-zhi  ZHANG Jia-yin  LIU Xin  WEN Jing  GAO Qiong  LI Kai  MU Hong-chen
Abstract:
Keywords:
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