|
|||||
|
|
| 添加剂在特种光学元件磨抛工艺中的应用 | |
| 作者姓名： | 孙巧贤 高秀敏 王世平 |
| 作者单位： | 西安应用光学研究所，西安应用光学研究所，西安应用光学研究所 |
| 摘 要： | 一、引言由两种物理化学性能不同的玻璃材料构成的某些特种光学元件,其表层材料耐酸,而里层材料又不耐酸,同时,该光学元件较薄(仅0.5mm左右),因此其磨抛技术比一般光学玻璃零件的磨抛要严格,技术上的考虑要 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |