| 低表面活性剂浓度下中孔MCM-41的形成与表征 |
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| 引用本文： | 陈晓银,丁国忠,陈海鹰,李全芝.低表面活性剂浓度下中孔MCM-41的形成与表征[J].中国科学B辑,1997(1). |
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| 作者姓名： | 陈晓银 丁国忠 陈海鹰 李全芝 |
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| 作者单位： | 复旦大学化学系 上海200433
(陈晓银，丁国忠，陈海鹰)，复旦大学化学系 上海200433(李全芝) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，中国博士后科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 利用低浓度表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵自组装体与无机阴离子硅酸根聚集体的相互作用,考察了全硅六角中孔相MCM-41的形成,用XRD,FT-IR,~(29)SiMAS NMR,热分析和氮气吸附-脱附等手段表征了该材料的结构,研究发现,表面活性剂胶团与硅酸根聚体作用物经移去可溶性离子后重排形成的结构显示典型的六方晶格衍射,焙烧移去表面活性剂后规整六方骨架的单元结构与硅胶的一致,材料的中孔结构取决于合成条件,水热合成过程改善了分子间的相互作用,提高了骨架硅原子的聚集度,BET比表面积增加87%,BJH法圆柱模型计算结果显示材料的中孔体积增加了71%.
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| 关 键 词： | 低浓度表面活性剂 十六烷基三甲基溴化铵 硅酸钠 MCM-41的形成 表征 |
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