| 湿法和溶脱法的亚微米ZnO:Al光栅制备 |
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| 引用本文： | 刘仁臣, 吴永刚, 夏子奂, 等. 湿法和溶脱法的亚微米ZnO:Al光栅制备[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 2613-2617. doi: 10.3788/HPLPB20122411.2613 |
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| 作者姓名： | 刘仁臣 吴永刚 夏子奂 王振华 唐平林 梁钊铭 |
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| 作者单位： | 1.同济大学 精密光学工程技术研究所,上海200092 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(10576021, 60977028);上海市重点科研基金项目(09JC1413800 |
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| 摘 要： | 以激光干涉法得到的光刻胶图案为掩模,采用湿法刻蚀和溶脱-剥离法制备了具有良好减反射特性的亚微米掺铝氧化锌（ZnO:Al, AZO）光栅。表面形貌特征和反射光谱测试结果表明,湿法刻蚀较溶脱-剥离法得到的AZO光栅表面更为粗糙,两者均方根粗糙度分别为25.4,7.6 nm。在400～900 nm波段,两种方法制备的周期和高度相同的光栅,平均总反射率分别由AZO薄膜的12.5%下降到8.3%和10.2%。两者的平均镜面反射率分别为6.2%和6.6%,平均漫反射率分别为2.1%和3.6%。湿法刻蚀得到的表面较为粗糙AZO光栅的漫反射明显减弱,从而导致总的减反特性优于溶脱-剥离法得到的表面起伏相对较小的AZO光栅。
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| 关 键 词： | 亚微米光栅 掺铝氧化锌 激光干涉法 湿法刻蚀 溶脱-剥离法 |
| 收稿时间： | 2012-02-19 |
| 修稿时间： | 2012-06-07 |
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