| 三正辛胺修饰电极伏安测定痕量金的研究 |
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| 引用本文： | 施清照,洪建军.三正辛胺修饰电极伏安测定痕量金的研究[J].高等学校化学学报,1990,11(4):414-416. |
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| 作者姓名： | 施清照 洪建军 |
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| 作者单位： | 杭州大学化学系
(施清照，洪建军，吕荣山，马国强)，杭州大学化学系(周英) |
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| 摘 要： | 用化学修饰电极伏安测定痕量金,Kalcher K等曾采用阴离子交换剂碳糊修饰电极及打萨宗碳糊修饰电极检测100～300μg/L的金。本文采用三正辛胺(TOA)修饰玻碳电极,在1.5 mol/L介质中,Au(Ⅲ)在+0.16 V(vs SCE)处有一灵敏的不可逆还原峰。检出限为0.1μg/L。灵敏度比文献方法高千倍。Au(Ⅲ)浓度在5×10~(-7)～5×10~(-9)mol/L范围内峰高与浓度
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| 关 键 词： | 修饰电极 伏安法 金 三正辛胺 |
Studies on Voltammetry Determinatibn of Trace Amount of Gold by Tri-n-Octylamine Modified Electrode |
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| Shi Qingzhao,Hong Jianjun,Lu Rongshan,Ma Guoqiang,Zhou Ying.Studies on Voltammetry Determinatibn of Trace Amount of Gold by Tri-n-Octylamine Modified Electrode[J].Chemical Research In Chinese Universities,1990,11(4):414-416. |
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| Authors: | Shi Qingzhao Hong Jianjun Lu Rongshan Ma Guoqiang Zhou Ying |
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| Keywords: | Modified electrode Voltammetry Gold Tri-n-octylamine |
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