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Fast sub-micrometer interference lithography on Silicon
Authors:H-B Jiang  A Grossmann  TW Hänsch
Institution:Max-Planck-Institut für Quantenoptik, D-85740 Garching, Germany, DE
Sektion Physik der Ludwig-Maximilians-Universit?t, Schellingstrasse 4, D-80799 München, Germany, DE
Abstract:Received: 4 February 1998/Revised version: 18 February 1998
Keywords:PACS: 68  35  Bs  82  65  -i
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