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Fast sub-micrometer interference lithography on Silicon
Authors:
H-B Jiang
A Grossmann
TW Hänsch
Institution:
Max-Planck-Institut für Quantenoptik, D-85740 Garching, Germany, DE
Sektion Physik der Ludwig-Maximilians-Universit?t, Schellingstrasse 4, D-80799 München, Germany, DE
Abstract:
Received: 4 February 1998/Revised version: 18 February 1998
Keywords:
PACS: 68
35
Bs
82
65
-i
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