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| 全球半导体技术水平的扫描 | |
| 引用本文： | 莫大康.全球半导体技术水平的扫描[J].集成电路应用,2005(11):1-2. |
| 作者姓名： | 莫大康 |
| 摘 要： | 按2004年12月的ITRS，国际半导体工艺路线图，其主要内容为2004年是90nm．2007年为65nm及2009年为45nm、这仅表示全球工业界开始进入该挡次技术的时间，决非己达到可以开始批量生产阶段，现在国际上还没有确切的定义。如何才叫进入90nm时代，其主要标志是什么？ |
| 关 键 词： | 半导体技术 全球 扫描 半导体工艺 生产阶段 水 路线图 工业界 国际 |
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