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杂志ISSN号
X光纳米充刻掩模的离子束制备法
作者姓名:
韩勇 彭良强 巨新 伊福廷 张菊芳 吴自玉
作者单位:
中国科学院高能物理所,北京100039
摘 要:
重离子柬轰击聚碳酸酯后.对样品进行陈化和紫外线照射数化,在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜。利用电化学沉积技术在核孔膜中制备了最小孔径为30纳米的铜纳米线。获得的钥纳米线/聚碳酸酯可以作为x光纳米光刻的腌膜。
关 键 词:
X光 纳米结构 光刻 纳米线 掩模 核孔膜 电化学沉积 离子束制备法 高能重离子
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