氦、氢直流辉光清洗对杂质的清除实验

直流辉光放电清洗在现代聚变装置上应用非常广泛，如JT－60U，JET，TFTR等。HL－1M装置是单层真空室结构，其材料为00Cr18Ni10Ti不锈钢和石墨孔栏，石墨覆盖整个真空室内壁表面的6％,使用2套超高真空机组抽气。因此真空室内可能有金属杂质Cr,Ni等，主要来源于器壁；还含有杂质Si，B等，主要来源于器壁的原位沉积处理，如硅化[直流辉光放电清洗（GDC）（SiH4 He)]，硼化[GDC(C2B10H12 He)]等。而目前运行的聚变装置中主要是来源于石墨的低Z杂质（C和O等），对第一壁进行He、H2、H2O等。由此可知，真空室器壁内表层的吸附物大致为金属氧化物、非金属氧化物、碳氢化合物、氢氧化合物等，为了更好地控制密度和真空壁条件达到清除其杂质的目的，我们分别用He,H2对真空室器壁进行直流辉光放电清洗。