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| 多肽合成中保护基团的新发展 | |
| 引用本文： | 但霍.多肽合成中保护基团的新发展[J].化学通报,1980(10). |
| 作者姓名： | 但霍 |
| 摘 要： | 一、亲水性保护基在使用经典方法进行多肽合成中常用的保护基都具有疏水性质,因此可使保护肽类在有机溶剂中的溶解度增加。然而随着肽链的增长和溶解度下降,给肽键的形成反应及产物的纯化过程造成很大困难。为改 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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