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电光晶体硒酸氢铷(RHSe)的生长动力学
引用本文:胡晓琳,陈建中,庄乃锋,兰建明,赵斌.电光晶体硒酸氢铷(RHSe)的生长动力学[J].人工晶体学报,2001,30(4):358-363.
作者姓名:胡晓琳  陈建中  庄乃锋  兰建明  赵斌
作者单位:福州大学化学化工学院化学系
基金项目:福建省自然科学基金(B 97005)资助项目
摘    要:本文采用动态循环观察法测量了RHSe晶体在水溶液中不同过饱和度下主要显露晶面的生长速率.结果表明,RHSe晶体主要显露晶面的生长机制是多二维成核生长机制,在饱和点为38.00℃的溶液中,RHSe晶体的{111}和{101}晶面的临界过饱和度分别为1.01;和1.16;.实验过程中还发现,当过饱和度大于1.76;时,晶体生长速率太快而出现宏观缺陷,因而在生长RHSe单晶时,过饱和度应控制在1.76;以下.

关 键 词:电光晶体  生长动力学  硒酸氢铷  多二维成核生长  
文章编号:1000-985(2001)04-0358-06
修稿时间:2001年6月18日

Growth Mechanism of Rubidium Hydrogen Selenate Crystal
Abstract:
Keywords:
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