|
|||||
|
|
| 工作气压对ZnO:Mn薄膜结构特性的影响 | |
| 引用本文： | 李彤,介琼,张宇,倪晓昌,赵新为.工作气压对ZnO:Mn薄膜结构特性的影响[J].发光学报,2013(6):711-715. |
| 作者姓名： | 李彤 介琼 张宇 倪晓昌 赵新为 |
| 作者单位： | 天津职业技术师范大学电子工程学院;东京理科大学物理系 |
| 基金项目： | 天津市教委(20120710,20110711)资助项目 |
| 摘 要： | 利用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上沉积了一系列ZnO:Mn薄膜,结合Raman光谱、XRD衍射谱和SEM分析了工作气压对ZnO:Mn薄膜结构特性的影响。Raman拟合光谱显示,在工作气压从1 Pa增加至4 Pa的过程中,ZnO:Mn薄膜始终保持着六角纤锌矿结构。但是,随着气压的降低,对应于E2(High)振动模式的Raman散射峰以及与Mn掺杂相关的特征峰左移,说明在低工作气压时,ZnO:Mn薄膜内晶格缺陷更多,晶格更加无序。这一结论也得到了XRD和SEM结果的证实。 |
| 关 键 词： | ZnO:Mn 拉曼 稀磁半导体 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |