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| 质谱同位素稀释法则定UO_2、UO_3及U_3O_8中痕量硼 | |
| 作者姓名： | 孟宪厚 黄达峰 宋新 |
| 作者单位： | 北京铀矿选冶研究所，北京铀矿选冶研究所，北京铀矿选冶研究所 |
| 摘 要： | 以N-甲基葡萄糖络合树脂分离硼,用国产质谱计测定了UO_2、UO_3及U_3O_8中痕量硼。通过合理选择发射剂用量,提高了发射灵敏度;用N-甲基葡萄糖络合树脂纯化主要试剂,降低了空白。方法的检出限为4.4×10~(-9)克硼。分析含硼0.330 ppm的UO_2试样时,方法的精密度为±3.4％。通常,分析痕量硼的主要困难是分离过程中硼的回收率不稳。Marsel认为,当从含硼0.5ppm的试样中分离硼时,一般化学方法的回收率可在20—100％之间波动。这可能是 |
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