低电压电沉积类金刚石碳膜的研究 |
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引用本文: | 王历,吴敏娴,李珺,陈艳丽,王文昌,陈智栋.低电压电沉积类金刚石碳膜的研究[J].电化学,2022(6):66-73. |
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作者姓名: | 王历 吴敏娴 李珺 陈艳丽 王文昌 陈智栋 |
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作者单位: | 常州大学石油化工学院 |
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基金项目: | 国家自然基金项目(No.51874050);;常州市科技项目(No.CJ20210139,No.CZ20200038)资助; |
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摘 要: | 采用电化学沉积法,在较低电压下(4.0~8.0 V)以甲酸作为主要碳源,甲酸钠作为辅助碳源,二甲基亚砜与去离子水作为溶剂,在不锈钢表面制备了类金刚石碳薄膜,研究了沉积电压对碳膜形貌和成分的影响。电化学沉积含氢类金刚石碳薄膜致密、均匀,膜的电导率与沉积电压呈负相关关系,电导率介于金属与半导体之间。拉曼光谱在1332 cm-1处出现金刚石的特征峰,sp3碳成分随沉积电压的增加而增加。傅里叶红外变换光谱显示沉积的类金刚石碳膜为含氢碳膜。X射线光电子能谱分析显示这些薄膜中存在sp2和sp3键碳原子。
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关 键 词: | 低电压 电化学沉积 类金刚石碳膜 不锈钢 二甲基亚砜 |
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