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一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法
引用本文:张继涛,李岩,罗志勇.一种可溯源的光谱椭偏仪标定方法[J].物理学报,2010,59(1):186-191.
作者姓名:张继涛  李岩  罗志勇
作者单位:(1)清华大学精密仪器与机械学系,精密测试技术及仪器国家重点实验室,北京 100084; (2)中国计量科学研究院,北京 100013
基金项目:国家科技支撑计划(批准号:2006BAF06B06)资助的课题.
摘    要:提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性.在掠入射条件下,X射线反射术能测得薄膜的物理厚度,测量结果具有亚纳米量级的精密度且与薄膜光学常数无关.在单晶硅基底上制备了厚度分别为2nm,18nm,34nm,61nm及170nm的SiO2薄膜标样,并用强制过零点的直线拟合了两种方法的标样测量结果,拟合直线的斜率为1.013±0.013,表明该方法可在薄膜厚度测量中标定光谱椭偏仪.

关 键 词:光谱椭偏术  X射线反射术  膜厚  标定
收稿时间:4/8/2009 12:00:00 AM
修稿时间:5/6/2009 12:00:00 AM

A traceable calibration method for spectroscopic ellipsometry
Zhang Ji-Tao,Li Yan,Luo Zhi-Yong.A traceable calibration method for spectroscopic ellipsometry[J].Acta Physica Sinica,2010,59(1):186-191.
Authors:Zhang Ji-Tao  Li Yan  Luo Zhi-Yong
Abstract:A method for calibrating the spectroscopic ellipsometry by X-ray reflectivity is presented. As an indirect method,spectroscopic ellipsometry does not have the traceability because the measured film thickness is dependent on its optical constant. In contrast,at the grazing angle,the X-ray reflectivity can be used to measure the absolute thickness of thin film with sub-nanometer precision,and is independent of the optical constant. Five SiO2 films were deposited on the substrate of single crystal silicon with...
Keywords:spectroscopic ellipsometry  X-ray reflectivity  film thickness  calibration  
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