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金属蒸气真空孤离子源及其束流密度分布
引用本文:朱祥正,张荟星.金属蒸气真空孤离子源及其束流密度分布[J].微细加工技术,1990(4):6-9.
作者姓名:朱祥正  张荟星
作者单位:北京师范大学低能核物理研究所 (朱祥正,张荟星),北京师范大学低能核物理研究所(张孝吉)
摘    要:我们研制了一种金属蒸气真空孤(MEVVA)离子源。这是一种新型的强流金属离子源,特别适用于离子注入材料表面改性中。测量了该源的引出束流密度分布,并估算了束散角和发射度。

关 键 词:金属蒸气  真空孤离子源  离子注入
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