| 基于叉指结构的平面分形电容研究 |
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| 引用本文： | 徐文彬,庄铭杰,王德苗.基于叉指结构的平面分形电容研究[J].集美大学学报(自然科学版),2010,15(5). |
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| 作者姓名： | 徐文彬 庄铭杰 王德苗 |
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| 作者单位： | 1. 集美大学信息工程学院,福建,厦门,361021
2. 浙江大学信息与电子工程系,浙江,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助，福建省自然科学基金资助，集美大学科研启动基金 |
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| 摘 要： | 以基于叉指结构的平面分形电容为研究对象,电容由激光刻蚀法制得,在测得其S参数后,利用ADS仿真工具进行了一阶等效电路参数提取及分析.结果表明,随着共面叉指电极间距的相对减小,电极间的耦合增大,相应的寄生电感也增大;而分形设计可以在保证电极间距不变的情况下,改善电容的工作稳定性.最后制得的分形平面电容的电容值在1~7 pF之间,电容稳定工作频率可达2.5 GHz以上,显示了较好的可调性和稳定性.
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| 关 键 词： | 集成薄膜电容 叉指电极 分形 |
Fractal Planar Capacitors Based on Interdigital Structures |
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| XU Wen-bin,ZHUANG Ming-jie,WANG De-miao.Fractal Planar Capacitors Based on Interdigital Structures[J].the Editorial Board of Jimei University(Natural Science),2010,15(5). |
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| Authors: | XU Wen-bin ZHUANG Ming-jie WANG De-miao |
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