| NMOS器件中单粒子瞬态电流收集机制的二维数值分析 |
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| 引用本文： | 卓青青,刘红侠,郝跃.NMOS器件中单粒子瞬态电流收集机制的二维数值分析[J].物理学报,2012,61(21):493-499. |
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| 作者姓名： | 卓青青 刘红侠 郝跃 |
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| 作者单位： | 西安电子科技大学微电子学院、宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，教育部科技创新工程重大项目培育资金，中央高校基本科研业务费专项资金( |
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| 摘 要： | 通过二维数值模拟,深入分析了NMOSFET在不同漏极偏置、不同栅长度和不同注入位置下的单粒子效应.研究结果表明:漏极偏置电压越高,栅长度越短,器件的单粒子瞬态电流越大,收集电荷越多.通过研究不同注入位置情况下的单粒子效应表明:单粒子瞬态脉冲电流的大小和器件中该处对应的电场强度成比例变化.研究结果为设计抗单粒子器件提供了重要指导.
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| 关 键 词： | 单粒子瞬态脉冲 电荷收集机制 注入位置 漏极偏压 |
Two-dimensional numerical analysis of the collection mechanism of single event transient current in NMOSFET |
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| Zhuo Qing-Qing Liu Hong-Xia Hao Yue.Two-dimensional numerical analysis of the collection mechanism of single event transient current in NMOSFET[J].Acta Physica Sinica,2012,61(21):493-499. |
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| Authors: | Zhuo Qing-Qing Liu Hong-Xia Hao Yue |
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| Institution: | Zhuo Qing-Qing Liu Hong-Xia Hao Yue (Key Laboratory for Wide Band Gap Semiconductor Materials and Devices of Education,School of Microelectronics,Xidian University, Xi’an 710071,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | single event transient drain bias gate length striking location |
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