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| 用于1053nm高功率脉冲激光的有序介孔减反射膜 | |
| 引用本文： | 孙菁华,徐耀,晏良宏,吕海兵,袁晓东.用于1053nm高功率脉冲激光的有序介孔减反射膜[J].物理学报,2012,61(20):384-390. |
| 作者姓名： | 孙菁华 徐耀 晏良宏 吕海兵 袁晓东 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院山西煤炭化学研究所,中国科学院炭材料重点实验室,太原030001 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳621900 中国科学院研究生院,北京100049 2. 中国科学院山西煤炭化学研究所,中国科学院炭材料重点实验室,太原030001 3. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900 |
| 摘 要： | 以非离子表面活性剂F127为模板,正硅酸乙酯为硅源,在酸性条件下合成胶体通过溶剂蒸发诱导自组装的方式制备了单层薄膜,经氨气预处理和高温煅烧除去模板剂后得到介孔氧化硅薄膜.利用同步辐射掠入射X射线衍射、氮气吸脱附和透射电子显微镜研究了薄膜的介观结构,发现薄膜内部呈现有序的笼型孔道结构,可归属于体心立方排列.通过紫外-可见光谱仪和椭偏仪研究了薄膜的光学性质,在1053 nm波长处光学透射率可达99.9%以上,折射率可依F127/Si摩尔比而变.采用原子力显微镜研究了薄膜的表面性质,薄膜表面平整,平均粗糙度仅为1.2 nm.使用1053 nm激光测试薄膜的激光损伤阈值,所有样品阈值均大于25 J·cm-2（脉宽为1 ns）.该薄膜制备方法有望成为一种大口径减反射膜制备新方法. |
| 关 键 词： | 有序介孔 氧化硅 减反射膜 激光损伤阈值 |
Ordered mesoporous antireflective films for 1053 nm high power pulse laser |
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| Sun Jing-Hua,Xu Yao,Yan Liang-Hong,LüHai-Bing,Yuan Xiao-Dong.Ordered mesoporous antireflective films for 1053 nm high power pulse laser[J].Acta Physica Sinica,2012,61(20):384-390. | |
| Authors: | Sun Jing-Hua Xu Yao Yan Liang-Hong LüHai-Bing Yuan Xiao-Dong |
| Institution: | (2)) 1)(Key Laboratory of Carbon Materials,Institute of Coal Chemistry,Chinese Academy of Sciences,Taiyuan 030001,China) 2)(Laser Fusion Research Centre,Chinese Academy of Engineering Physics,Mianyang 621900,China) 3)(Graduate University of the Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | ordered mesoporous silica antireflective films laser-induced damage threshold |
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