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Sn1-x(In1-yCuy)xO薄膜的合成
引用本文:郭玲玲,郑光裕,张治国. Sn1-x(In1-yCuy)xO薄膜的合成[J]. 物理实验, 2006, 26(9): 12-16
作者姓名:郭玲玲  郑光裕  张治国
作者单位:泉州师范学院,理工学院,福建,泉州,362000
摘    要:利用真空反应蒸发技术,在氧分压约为8.5×10-2Pa、衬底温度为400℃条件下蒸发高纯度的铟、锡和铜,在玻璃衬底上制备出Sn1-x(In1-yCuy)xO薄膜.研究了蒸发源材料质量比不同的样品的薄膜结构、透过率、薄膜的方块电阻和电阻率与温度的关系.实验结果表明,Sn1-x(In1-yCuy)xO透明导电薄膜具有优良的光电特性,而且制备出的Sn1-x(In1-yCuy)xO薄膜中In的含量大大减少,可以成为ITO薄膜的潜在替代材料.

关 键 词:Sn1-x(In1-yCuy)xO薄膜  反应蒸发法  XRD衍射图  温度特性  透过率
文章编号:1005-4642(2006)09-0012-05
收稿时间:2006-05-09
修稿时间:2006-06-20

Preparation of Sn1-x(In1-yCuy)xO films
GUO Ling-ling,ZHENG Guang-yu,ZHANG Zhi-guo. Preparation of Sn1-x(In1-yCuy)xO films[J]. Physics Experimentation, 2006, 26(9): 12-16
Authors:GUO Ling-ling  ZHENG Guang-yu  ZHANG Zhi-guo
Abstract:
Keywords:Sn_(1-x)(In_(1-y)Cu_y)_xO films  reaction evaporation  XRD spectra  temperature property  transmissivity
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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