| 沸石表面有机金属化学ZSM-5外表面上——Ge(n-C4H9)x基团的接枝及其性质研究 |
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| 作者姓名： | 王绪绪 赵慧霞 付贤智 |
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| 作者单位： | 1. 福州大学光催化研究所,
2. Laboratoire de Chimie Organométallique de Surface, UMR CNRS-CPE 9986,43, Bd du 11 Novembre 1918, 69616 Villeurbanne Cedex, France |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金! (批准号 :2 98430 0 3)资助 |
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| 摘 要： | 用气体分析及IR,NMR和元素分析等方法研究了真空系统中230℃和280℃下四丁基锗在ZSM-5沸石表面上的接枝反应,并对所得沸石的热稳定性和吸附性质进行了表征,与作者曾报道的硅胶及丝光沸石上的反应类似,四丁基锗也能与ZSM-5沸石表面上的硅羟基发生缩合反应,在其外表面或孔口生成组成为(=Si-O)xGe(n-C4H9)4-x(x=2~3)的表面有机锗化合物,在２３０℃接枝丁基锗基团不影响沸石的结构和表面积,仅改变它的孔口大小,在改性后的沸石上,Ｎ２的吸附性质没有改变,而不同分子尺寸的烃,加正已烷,２-甲基戊烷,２,３-二甲基丁烷却呈现出完全不同于起始ＺＳＭ-５沸石的择形吸附效应.
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| 关 键 词： | ZSM－5 四丁基锗 表面修饰 有机金属化合物 表面接枝反应 沸石 |
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