| 低气压下XeCl准分子的形成研究 |
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| 引用本文： | 赵晓辉,张连水,韩理.低气压下XeCl准分子的形成研究[J].光谱学与光谱分析,2003,23(2):244-245. |
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| 作者姓名： | 赵晓辉 张连水 韩理 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,071002 |
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| 摘 要： | 本工作利用高频介质阻挡放电对较低气压(70～1330 Pa)Xe/Cl_2混合气体中XeCl准分子的形成过程进行研究。通过探测不同Xe/Cl_2混合气压和不同Xe/Cl_2混合比条件下放电等离子体在285～315nm波长范围的荧光发射谱,得到了XeCl准分子在308nm附近的荧光发射以及荧光强度随气压变化曲线。得出该实验条件下生成XeCl准分子的最佳Xe/Cl_2混合比为4:1。
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| 关 键 词： | XeCl准分子 介质阻挡放电 荧光发射谱 |
| 文章编号： | 1000-0593(2003)02-0244-02 |
| 修稿时间： | 2001年9月17日 |
Study on the Formation of XeCl at Low Pressure |
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| ZHAO Xiao-hui,ZHANG Lian-shui and HAN Li
College of Physics and Technology,Hebei University,Baoding ,China.Study on the Formation of XeCl at Low Pressure[J].Spectroscopy and Spectral Analysis,2003,23(2):244-245. |
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| Authors: | ZHAO Xiao-hui ZHANG Lian-shui and HAN Li
College of Physics and Technology Hebei University Baoding China |
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| Institution: | College of Physics and Technology, Hebei University, Baoding 071002, China. |
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| Abstract: | Low pressure dielectric barrier discharge was used to study the formation of XeCl excimer in a mixture of Xe/Cl2 in the range of 70-1 330 Pa. The fluorescence emission spectra in the range of 285-315 nm at different pressure and ratio of Xe/Cl2 were measured. The results indicate that near 308 nm the emission intensities of XeCl formed under the experimental conditions varied with different total pressure and ratio of Xe/Cl2, and the formation efficiency of XeCl excimer reached maximum value at the ratio of 4 : 1. |
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| Keywords: | XeCl excimer Dielectric barrier discharge (DBD) Fluorescence emission spectrum |
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