下陷层参数对掺氟下陷层多芯光纤特性的影响分析EI北大核心CSCD |
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作者姓名: | 郑斯文 任国斌 林桢 简伟 简水生 |
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作者单位: | 1.北京交通大学全光网络与现代通信网教育部重点实验室100044;2.北京交通大学光波技术研究所100044; |
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基金项目: | 国家973计划(2010CB328206);国家自然科学基金(61178008;61275092);中央高校基本科研业务费专项基金(2011RC050) |
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摘 要: | 系统地研究了带有掺氟下陷层的多芯光纤中不同下陷结构参数对串扰特性及模场面积的影响。研究表明,通过调整下陷层的结构参数,在不牺牲低串扰特性的前提下,这种多芯光纤可以实现大的有效面积。另外,详细讨论了下陷层的结构参数对光纤色散及色散斜率的影响,并针对光纤色散问题在实验上得到了验证。分析表明这种低串扰、大有效面积掺氟下陷层多芯光纤在大容量、高功率光纤通信系统中具有重要的潜在应用价值。
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关 键 词: | 光纤光学 多芯光纤 数值模拟 掺氟下陷层 大模场面积 低串扰 色散 |
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