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一维版图的快速光刻仿真EI北大核心CSCD
作者姓名:谢春蕾史峥林斌
作者单位:1.浙江大学超大规模集成电路设计研究所310027;
摘    要:充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相比于传统的快速仿真方法,该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。

关 键 词:成像系统  光刻  光刻仿真  一维版图
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