一维版图的快速光刻仿真EI北大核心CSCD |
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作者姓名: | 谢春蕾史峥林斌 |
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作者单位: | 1.浙江大学超大规模集成电路设计研究所310027; |
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摘 要: | 充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相比于传统的快速仿真方法,该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。
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关 键 词: | 成像系统 光刻 光刻仿真 一维版图 |
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