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用于1.54μm微片激光器的高Er^3+/Yb^3+共掺杂的氟铝酸盐玻璃
作者姓名:张军杰 河本洋二 戴世勋 张丽艳
作者单位:[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800 [2]日本神户大学理学部化学科,神户657—8501,日本
摘    要:本文系统制备了980nm半导体崩浦的应用于1.54μm波段微片激光器的高Er^3 /Yb^3 共掺杂的氟铝酸盐玻璃。通过玻璃的吸收光谱,发射光谱和上转换荧光光谱的测试,对其光学性质、浓度淬灭及其淬灭机制进行了分析和讨论。当玻璃中Er^3 离子掺杂浓度低于10mol%的情况下,浓度淬灭现象较弱,Er^3 /Yb^3 共掺杂的氟铝酸盐玻璃在由于Er^3 离子^4 I13/2→4^I 15/2跃迁所引起的1.54μm波段的发射强度比Er^3 单掺杂的氟铝酸盐玻璃中的荧光强度要强。在Er^3 离子掺杂浓度高于10mol%的情况下,由于Er^3 与Yb^3 之间的反能量转移过程,Er^3 /Yb^3 共掺杂的氟铝酸盐玻璃的1.54μm波段的荧光浓度淬灭效应比Er^3 离子单掺杂的情况下明显。在Er^3 离子掺杂浓度小于10mol%的情况下,实验中发现可获得1.54μm波段高发射效率的Er^3 与Yb^3 离子最佳摩尔浓度掺杂比例约为1:1。

关 键 词:微片激光器 铒离子/镱离子共掺杂 氟铝酸盐玻璃 吸收光谱 发射光谱 上转换荧光光谱
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