| 射频磁控溅射法制备TiO2-xNx薄膜的结构性能研究 |
| |
| 引用本文： | 冯磊,罗士雨,黄涛华,林辉,滕浩,汪洪,周圣明. 射频磁控溅射法制备TiO2-xNx薄膜的结构性能研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(5): 1127-1131 |
| |
| 作者姓名： | 冯磊 罗士雨 黄涛华 林辉 滕浩 汪洪 周圣明 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039 |
| |
| 摘 要： | 利用射频磁控溅射法室温下在Si(100)衬底上制备了N掺杂的TiO2薄膜,并且采用x射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和透射光谱对薄膜进行了表征.XRD结果表明在纯Ar和N2(33.3;)/Ar气氛下制备的TiO2-xNx薄膜均为单一的金红石相,薄膜结晶性良好,呈高度(211)择优取向,而在N2(50.0;)/Ar下制备的薄膜结晶性明显变差;对于N掺杂的TiO2薄膜,XPS表明部分N原子进入TiO2晶格,并且以N-Ti-O、N-O键以及间隙式N原子形式存在;透射光谱表明掺N后的TiO2薄膜吸收边发生了红移.
|
| 关 键 词： | TiO2 射频磁控溅射 氮掺杂 X射线光电子能谱, |
Study on the Structure and Properties of TiO2-xNx Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering |
| |
| FENG Lei,LUO Shi-Yu,HUANG Tao-hua,LIN Hui,TENG Hao,WANG Hong,ZHOU Sheng-ming. Study on the Structure and Properties of TiO2-xNx Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(5): 1127-1131 |
| |
| Authors: | FENG Lei LUO Shi-Yu HUANG Tao-hua LIN Hui TENG Hao WANG Hong ZHOU Sheng-ming |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | TiO2 |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
