| 组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计EI北大核心CSCD |
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| 引用本文： | 沈诗欢李艳秋姜家华刘岩刘克刘丽辉.组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计EI北大核心CSCD[J].光学学报,2017(8):280-287. |
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| 作者姓名： | 沈诗欢李艳秋姜家华刘岩刘克刘丽辉 |
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| 作者单位： | 1.北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室100081; |
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| 基金项目： | 国家科技重大专项；国家自然科学基金面上项目(61675026)；国家自然科学基金重大科研仪器研制项目(11627808) |
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| 摘 要： | 10nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展,物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大,传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此,提出了横纵梯度膜组合法,用横向梯度膜提高反射率,用纵向梯度膜提高反射率均匀性,并补偿横向梯度膜引入的像差。应用该方法对一套NA为0.50的组合倍率EUV光刻物镜进行膜层设计,设计结果表明,在保证系统成像性能不变的情况下,平均每面反射镜的反射率大于60%,各反射镜的反射峰谷值均小于3.5%,满足光刻要求,验证了横纵梯度膜组合法的可行性。
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| 关 键 词： | 光学设计 多层膜 反射系统 极紫外光刻 |
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