| 等离子体处理对有机硅膜气体透过性能的影响 |
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| 引用本文： | 孙求实 后晓淮. 等离子体处理对有机硅膜气体透过性能的影响[J]. 功能高分子学报, 1991, 4(4): 279-284 |
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| 作者姓名： | 孙求实 后晓淮 |
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| 作者单位： | 中国科学院化学研究所(孙求实)，中国科学院化学研究所(后晓淮) |
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| 摘 要： | 本文研究了有机硅膜经等离子体处理和等离子体聚合沉积后,气体透过性能的变化。以及放置一段时间后,随着等离子体处理效果的变化,膜的气体透过性能的改变。结果表明无论是Ar等离子体处理的有机硅膜,还是八甲基环四硅氧烷(D_4)等离子体聚合沉积的有机硅膜,其气体透过性能都发生了明显的变化。即经等离子体处理后,膜的气体透过系数下降,选择分离系数上升。在放置一段时间后,其气体透过系数和选择分离系数均表现出有回复的趋势。因此,等离子体处理对膜的气体透过性能的影响随放置时间而变化。
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| 关 键 词： | 有机硅膜 等离子体处理 透气性 |
The effect of plasma treatment on gas permeability of organosilicon membrane |
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| Sun Qiushi Hou Xiaohuai. The effect of plasma treatment on gas permeability of organosilicon membrane[J]. Journal of Functional Polymers, 1991, 4(4): 279-284 |
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| Authors: | Sun Qiushi Hou Xiaohuai |
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| Abstract: | This paper studies the gas permeability of organosilicon membrane treated by plasma treatment or plasma polymeriaztion. The effect of decay of polar surface on the gas permeability of plasma treated membranes was discussed. |
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| Keywords: | plasma treatment gas permeability organosilicon membrane. |
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