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非晶SiO_xN_y薄膜的红外吸收光谱研究
引用本文:石旺舟,欧阳艳东,俞波.非晶SiO_xN_y薄膜的红外吸收光谱研究[J].光谱学与光谱分析,2001(2).
作者姓名:石旺舟  欧阳艳东  俞波
作者单位:汕头大学物理系!515063汕头
基金项目:广东省重点科技项目! (2KB0 0 80 5G)资助课题
摘    要:通过改变O和N含量研究了SiOxNy 薄膜中从 6 0 0到 16 0 0cm- 1 范围内的红外吸收谱特征。结果表明 ,起源于单一Si—O、Si—N键的吸收峰在 110 5和 86 5cm- 1 处 ;而随着薄膜中O或N含量的升高 ,位于单一键吸收峰的两侧出现因O—Si—O、N—Si—N的对称和反对称键吸收的左右肩 ;对O—Si—N ,其特征吸收峰位于 10 36和 85 6cm- 1 处。

关 键 词:SiOxNy薄膜  晶格振动  红外吸收

Investigation of a-SiO_xN_y Thin Film by Infrared Absorption
Wangzhou SHI,Yandong OUYANG and Bo YU.Investigation of a-SiO_xN_y Thin Film by Infrared Absorption[J].Spectroscopy and Spectral Analysis,2001(2).
Authors:Wangzhou SHI  Yandong OUYANG and Bo YU
Institution:Wangzhou SHI,Yandong OUYANG and Bo YU Department of Physics,Shantou University,515063 Shantou
Abstract:
Keywords:SiO  xN  y thin film    Lattice vibration    Infrared absorption  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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