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X射线成像技术揭示纳米级结构
摘 要:
目前,业界的芯片设计水平正在由90nm向65nm迈进,很快就将进入"亚纳米"时代,同时也会对流行已久的成熟EDA方法学提出新的需求,其中最为关键的问题是在设计规则验证(DRC)和可制造性设计(DFM)等方面.
关 键 词:
芯片设计
DFM
可制造性设计
设计水平
设计规则
亚纳米
方法学
EDA
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