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MCZ 技术的研究
引用本文:周士仁,纪彦蜀,孔庆茂,高元恺,王守雨,韩长林,傅择国.MCZ 技术的研究[J].半导体学报,1987(1).
作者姓名:周士仁  纪彦蜀  孔庆茂  高元恺  王守雨  韩长林  傅择国
作者单位:哈尔滨工业大学 (周士仁,纪彦蜀,孔庆茂,高元恺),鹤岗市半导体材料厂 (王守雨,韩长林),鹤岗市半导体材料厂(傅择国)
摘    要:本文在概述了 MCZ(Magnetic-field-applied CZ)技术的理论基础上,介绍了由作者们所研制的两种新型MCZ 硅单晶炉——“Y”形磁场和螺旋管全封闭式非线性磁场硅单晶炉,并在横向分量为1300G垂直分量为700G的“Y”形磁场中拉制出了MCZ 硅单晶.对氧含量和掺杂浓度的测量及对微观结构的初步观察表明,所设计的新型磁场单晶炉,可明显地提高硅单晶的掺杂均匀性和结构完整性.

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