| 基于电解液微弧放电的碳氮化钛厚膜形成机理分析 |
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| 引用本文： | 李新梅,孙文磊,憨 勇,刘 炳,孙耀宁. 基于电解液微弧放电的碳氮化钛厚膜形成机理分析[J]. 无机化学学报, 2010, 26(6): 1049-1055 |
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| 作者姓名： | 李新梅 孙文磊 憨 勇 刘 炳 孙耀宁 |
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| 作者单位： | 1. 新疆大学机械工程学院机械工程博士后科研流动站,乌鲁木齐,830047
2. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，新疆大学博士启动基金，新疆高校科研计划基金，中国博士后科学基金 |
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| 摘 要： | 采用电解液微弧碳氮化技术(PECN),在钛合金表面沉积出较厚的Ti(CxN1-x)膜层,用红外光谱研究了改性过程中的气封组成,分析了膜层的形成机理。结果表明:PECN处理过程中的气相产物主要是:CH4、NH3、C2H2、CO、CO2和H2O。各气体产物来自于PECN处理过程中有机物的分解,并且气体之间存在相互作用。随放电时间延长,各气体浓度呈现不同的变化趋势,导致气封中碳、氮势随之改变,继而引起Ti(CxN1-x)膜层中C/N原子比亦相应变化。PECN过程大致可分为:阴极电解析氢、有机物的热分解以形成气封,反应气体在等离子体的作用下分解、电离产生含碳、氮活性粒子,活性粒子向试样表面扩散,在试样表面吸附并发生化学反应形成Ti(CxN1-x)膜。
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| 关 键 词： | 电解液微弧碳氮化； Ti(CxN1-x)膜； 红外光谱； 形成机理 |
Growth Mechanism for Ti(CxN1-x) Thick Films Prepared by Plasma Electrolytic Carbonitriding |
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| LI Xin-Mei,SUN Wen-Lei,HAN Yong,LIU Bing and SUN Yao-Ning. Growth Mechanism for Ti(CxN1-x) Thick Films Prepared by Plasma Electrolytic Carbonitriding[J]. Chinese Journal of Inorganic Chemistry, 2010, 26(6): 1049-1055 |
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| Authors: | LI Xin-Mei SUN Wen-Lei HAN Yong LIU Bing SUN Yao-Ning |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma electrolytic carbonitriding Ti(CxN1-x)film infrared spectroscopy growth mechanism |
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