| 约瑟夫逊隧道结的制造工艺及其四端子电阻的研究 |
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| 引用本文： | 高洁,张玉珍,陈永魁,凌增柏.约瑟夫逊隧道结的制造工艺及其四端子电阻的研究[J].物理学报,1978,27(2):219-223. |
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| 作者姓名： | 高洁 张玉珍 陈永魁 凌增柏 |
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| 摘 要： | 一、引言 为了得到性能良好的约瑟夫逊铅隧道结,两层铅膜间的氧化层必须均匀、致密,厚度约为10—20埃,其间没有大面积漏洞,也不允许夹杂着氧化铅以外的大颗粒杂质。但是直接观测这一势垒层的状态和铅、氧离子的扩散活动是很困难的,因而广泛采用的判据是反映了氧化层状态的宏观隧道电阻R_T。大量的实验表明,对于性能良好的结,R_T应为数毫欧到数百毫欧。在结的储存过程中,伴随着铅膜与氧化层内原子与离子的扩散,结
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| 收稿时间： | 7/1/1976 12:00:00 AM |
FABRICATION OF JOSEPHSON TUNNEL JUNCTIONS AND STUDIES ON ITS FOUR-TERMINAL RESISTANCE |
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| GAO JIE,ZHANG YU-ZHEN,CHEN YONG-KUI and LING ZENG-BO.FABRICATION OF JOSEPHSON TUNNEL JUNCTIONS AND STUDIES ON ITS FOUR-TERMINAL RESISTANCE[J].Acta Physica Sinica,1978,27(2):219-223. |
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| Authors: | GAO JIE ZHANG YU-ZHEN CHEN YONG-KUI and LING ZENG-BO |
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