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分子束外延生长的InAs/GaAs自组织量子点发光特性
引用本文:孙彦,方志丹,龚政,苗振华,牛智川. 分子束外延生长的InAs/GaAs自组织量子点发光特性[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(2): 384-386
作者姓名:孙彦  方志丹  龚政  苗振华  牛智川
作者单位:大同大学物理系,大同,037009;中国科学院半导体研究所,北京,100083
基金项目:国家自然科学基金(No. 60176006,No. 90201026),中国科学院纳米科学与技术项目资助
摘    要:
研究了分子束外延生长的覆盖了1nm的InxAl1-xAs(x=0.2,O.3)和3nm的Ino2Gao8As复合应力缓冲层InAs/GaAs自组织量子点(QD)光致发光(PL)特性.加InAlAs层后PL谱红移到1.33μm,室温下基态和第一激发态间的跃迁能级差增加到86meV.高In组份的InAlAs有利于获得较长波长和较窄的半高宽(FWHM).对于覆盖复合应力缓冲层的QD不会使波长和FWHM发生显著变化,但可以使基态和第一激发态间的能级差进一步增大.这些结果归因于InAlAs能够有效的抑制In的偏析,减少应力,使QD保持较高的高度.同时,由于InAlAs具有较高的限制势垒,可以增加基态和第一激发态间的能级差.

关 键 词:量子点  应力缓冲层  半高宽  光致荧光谱,
文章编号:1000-985X(2005)02-0384-03

Light Emission Characteristics of Self-organized Quantum Dot of InAs/GaAs Grown at the Edge of Molecular Beam
SUN Yan,FANG Zhi-dan,GONG Zheng,MIAO Zhen-hua,NIU Zhi-chuan. Light Emission Characteristics of Self-organized Quantum Dot of InAs/GaAs Grown at the Edge of Molecular Beam[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(2): 384-386
Authors:SUN Yan  FANG Zhi-dan  GONG Zheng  MIAO Zhen-hua  NIU Zhi-chuan
Affiliation:SUN Yan~1,FANG Zhi-dan~2,GONG Zheng~2,MIAO Zhen-hua~2,NIU Zhi-chuan~2
Abstract:
Keywords:quamtum dot  stress buffer layer  FWHM  photon induced fluorecence specrum
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