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| 合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究 | |
| 引用本文： | 胡一贯.合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究[J].物理,1996(2). |
| 作者姓名： | 胡一贯 |
| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室!合肥230026 |
| 摘 要： | 同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米级图形的 超微细加工，特别是ＬＩＧＡ技术的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域．使它不仅适合于超大规模 集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作．文章简要介绍了 ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展． |
| 关 键 词： | X射线光刻 同步辐射光刻 超微细加工 LIGA技术 |
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