| （英）沉积温度对脉冲激光沉积法在YSZ (100)衬底上生长的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4尖晶石薄膜结构、电学和磁学性能的影响 |
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| 引用本文： | 张韬略,刘芳,林铁,徐德才,侯云.（英）沉积温度对脉冲激光沉积法在YSZ (100)衬底上生长的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4尖晶石薄膜结构、电学和磁学性能的影响[J].红外与毫米波学报,2020,39(6):678-683. |
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| 作者姓名： | 张韬略 刘芳 林铁 徐德才 侯云 |
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| 作者单位： | 上海理工大学材料科学与工程学院,上海 200093;中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海 200083;上海理工大学材料科学与工程学院,上海 200093;中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海 200083 |
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| 摘 要： | 在YSZ（100）衬底上，采用脉冲激光沉积法在500℃至700℃的不同沉积温度下生长出尖晶石结构的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4（MCNO）薄膜.由于沉积温度是制备高质量薄膜的重要因素，本文研究了MCNO薄膜结构、电学和磁学性能随沉积温度的变化.通过对X射线衍射图和原子力显微镜图像的分析，发现MCNO薄膜的结晶与沉积温度有很大关系.随着沉积温度的升高，MCNO薄膜的电阻率呈V型变化，其导电过程可以用小极化子跳跃机理来描述.同时，随温度变化的磁化曲线表明所有样品都显示出从铁磁性到顺磁性的转变，且沉积温度为600℃的MCNO薄膜具有216 K的高居里温度.以上研究结果表明，在600℃沉积的MCNO薄膜具有适用于热敏电阻器件和多功能异质结所需的良好性能.
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| 关 键 词： | 薄膜技术 脉冲激光沉积 沉积温度 磁学性能 |
| 收稿时间： | 2020/2/5 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2020/11/13 0:00:00 |
Effects of deposition temperature on the structural, electrical and magnetic properties of Mn1.56Co0.96Ni0.48O4 spinel films grown on YSZ (100) substrates by pulsed laser deposition |
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| ZHANG Tao-Lue,LIU Fang,LIN Tie,XU De-Cai and HOU Yun.Effects of deposition temperature on the structural, electrical and magnetic properties of Mn1.56Co0.96Ni0.48O4 spinel films grown on YSZ (100) substrates by pulsed laser deposition[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2020,39(6):678-683. |
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| Authors: | ZHANG Tao-Lue LIU Fang LIN Tie XU De-Cai and HOU Yun |
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| Keywords: | thin film technology pulsed laser deposition deposition temperature magnetic properties |
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