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硅纳米线的制备及其光学性能的研究
引用本文:陈亚婷,王金良,陈泽升,秦韶阳,薄乾红.硅纳米线的制备及其光学性能的研究[J].人工晶体学报,2016,45(8):1998-2002.
作者姓名:陈亚婷  王金良  陈泽升  秦韶阳  薄乾红
作者单位:北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,北京,100191
摘    要:通过金属催化化学刻蚀的方法中的两步法制备出了具有阵列结构的硅纳米线,研究了不同刻蚀条件对硅纳米线形貌的影响,分析了形成不同形貌的原因.测定了不同条件下制备的硅纳米线的光吸收性能,总结了影响光吸收性能的因素和原因,根据硅纳米线的光吸收图求出了硅纳米线的禁带宽度,说明了硅纳米线已经具备不同于硅片的性能.

关 键 词:硅纳米线  金属催化化学刻蚀法  光吸收  

Preparation and Optical Properties of Silicon Nanowires
CHEN Ya-ting,WANG Jin-liang,CHEN Ze-sheng,QIN Shao-yang,BO Qian-hong.Preparation and Optical Properties of Silicon Nanowires[J].Journal of Synthetic Crystals,2016,45(8):1998-2002.
Authors:CHEN Ya-ting  WANG Jin-liang  CHEN Ze-sheng  QIN Shao-yang  BO Qian-hong
Abstract:
Keywords:silicon nanowire  metal catalytic chemical etching  optical absorption
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