| 环形天线-椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下沉积高品质金刚石膜 |
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| 引用本文： | 李义锋,唐伟忠,苏静杰,安晓明,刘晓晨,姜龙,孙振路.环形天线-椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下沉积高品质金刚石膜[J].人工晶体学报,2016,45(8):2028-2033. |
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| 作者姓名： | 李义锋 唐伟忠 苏静杰 安晓明 刘晓晨 姜龙 孙振路 |
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| 作者单位： | 北京科技大学新材料技术研究院,北京100083;河北省激光研究所,石家庄050081;河北普莱斯曼金刚石科技有限公司,石家庄050081;北京科技大学新材料技术研究院,北京,100083;中国科学院北京纳米能源与系统研究所,北京,100083;河北省激光研究所,石家庄050081;河北普莱斯曼金刚石科技有限公司,石家庄050081 |
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| 摘 要： | 介绍了自行研制的环形天线-椭球谐振腔式高功率MPCVD装置的结构特点,展示并研究了新装置在高功率条件下的放电特性.在10.5 kW的高微波输入功率下成功制备了直径50 mm,厚度接近1 mm的高品质自支撑金刚石膜.在真空泄漏速率约2.5 ×10-6 Pa·m3/s的条件下金刚石膜的生长速率达到6μm/h,金刚石膜厚度偏差小于±2.1;.抛光后的金刚石膜红外透过率在6.5～25μm范围内接近71;;紫外透过率在270 nm处超过50;,金刚石膜样品的光学吸收边约为225 nm;通过紫外吸收光谱计算的金刚石膜样品中的氮杂质含量约为1.5 ppm;金刚石膜的拉曼半峰宽小于1.8 cm-1.
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| 关 键 词： | 金刚石膜 化学气相沉积 高功率 氮杂质 椭球谐振腔 |
Deposition of High Quality Diamond Films with High Power by a Circumferential Antenna Ellipsoidal Cavity Type MPCVD Reactor |
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| LI Yi-feng,TANG Wei-zhong,SU Jing-jie,AN Xiao-ming,LIU Xiao-chen,JIANG Long,SUN Zhen-lu.Deposition of High Quality Diamond Films with High Power by a Circumferential Antenna Ellipsoidal Cavity Type MPCVD Reactor[J].Journal of Synthetic Crystals,2016,45(8):2028-2033. |
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| Authors: | LI Yi-feng TANG Wei-zhong SU Jing-jie AN Xiao-ming LIU Xiao-chen JIANG Long SUN Zhen-lu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond film chemical vapor deposition high power nitrogen inpurity ellipsoidal cavity |
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