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大尺寸高质量GaSb单晶研究
引用本文:练小正,李璐杰,张志鹏,张颖武,程红娟,徐永宽.大尺寸高质量GaSb单晶研究[J].人工晶体学报,2016,45(4):901-905.
作者姓名:练小正  李璐杰  张志鹏  张颖武  程红娟  徐永宽
作者单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津,300220
摘    要:采用垂直布里奇曼法(VB法)生长2英寸GaSb单晶,分析了GaSb多晶产生的原因,即GaSb原料与覆盖剂中残留水分发生化学反应生成氧化镓残渣,残渣吸附在坩埚内壁导致GaSb多晶形成.通过增加覆盖剂除水工艺,成功生长出2英寸高质量GaSb单晶.此外,研究了单晶内部位错分布特点,结果显示GaSb晶体具有较低的位错密度,EPD≤500 cm-2;同时,对晶体进行XRD摇摆曲线测试,其FWHM值为27 arcsec,表明晶体质量较高;此外,对晶体进行了电学性能测试,结果显示制备的GaSb晶体呈P型导电,晶体迁移率为610 cm2/V·s,载流子浓度达到了1.68×1017cm-3.

关 键 词:GaSb  垂直布里奇曼法  位错密度  覆盖剂  

Research of Large Size GaSb Single Crystal with High Quality
LIAN Xiao-zheng,LI Lu-jie,ZHANG Zhi-peng,ZHANG Ying-wu,CHENG Hong-juan,XU Yong-kuan.Research of Large Size GaSb Single Crystal with High Quality[J].Journal of Synthetic Crystals,2016,45(4):901-905.
Authors:LIAN Xiao-zheng  LI Lu-jie  ZHANG Zhi-peng  ZHANG Ying-wu  CHENG Hong-juan  XU Yong-kuan
Abstract:
Keywords:GaSb  VB method  dislocation density  encapsulant
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