| 气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响 |
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| 引用本文： | 郑可,钟强,高洁,黑鸿君,申艳艳,刘小萍,贺志勇,于盛旺.气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响[J].人工晶体学报,2016,45(10):2359-2363. |
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| 作者姓名： | 郑可 钟强 高洁 黑鸿君 申艳艳 刘小萍 贺志勇 于盛旺 |
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| 作者单位： | 太原理工大学材料科学与工程学院表面工程研究所,太原,030024;太原理工大学材料科学与工程学院表面工程研究所,太原030024;歌尔声学股份有限公司,青岛261000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51474154;51601124)，山西省回国留学人员科研资助项目(2015-034) |
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| 摘 要： | 使用自行研制的频率为2.45 GHz的TYUT型MPCVD装置,以H2和CH4为气源,在功率为8 kW、基片温度为1000℃、气体流量为100～800 sccm条件下,进行了直径为65 mm的大面积金刚石膜的沉积实验.使用扫描电镜、X射线衍射仪、数字千分尺和Raman光谱仪等仪器分别对金刚石膜的表面形貌、取向、厚度和品质进行了表征.实验结果表明,气体流量的变化会对金刚石膜的晶粒尺寸,晶体取向,沉积速率,厚度均匀性和品质产生较大的影响.气体流量在300～600 sccm范围内制备的金刚石膜才兼具晶粒尺寸均匀性好、表面缺陷少和品质高的优点.
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| 关 键 词： | 气体流量 MPCVD 金刚石膜 均匀性 晶粒取向 品质 |
Effect of Gas Flow Rates on the Large Area Diamond Films Deposited by TYUT-type MPCVD Equipment |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | gas flow rate MPCVD diamond film uniformity grain orientation quality |
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